Les actions d'ASML chutent de 2% alors que les États-Unis s'inquiètent de l'accès chinois à l'EUV
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Les actions d'ASML chutent de 2% alors que les États-Unis s'inquiètent de l'accès chinois à l'EUV

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Les actions d'ASML ont chuté de 1,99 % à la suite d'une divulgation par Bloomberg News révélant que le secrétaire au Commerce, Howard Lutnick, avait eu des discussions avec les hauts dirigeants de l'entreprise au sujet de violations potentielles des restrictions à l'exportation de semi-conducteurs. La préoccupation centrale : si l’un des outils de fabrication de puces les plus sophistiqués d’ASML a atteint illégalement le territoire chinois. ASML Holding N.V., ASML Les discussions entre Lutnick et la direction d'ASML se sont concentrées sur les systèmes de lithographie ultraviolette extrême de l'entreprise, communément appelés machines EUV. Ceux-ci représentent le summum de la technologie de fabrication de semi-conducteurs et sont soumis à des contrôles internationaux stricts. L'équipementier basé aux Pays-Bas a réagi rapidement et de manière décisive. Selon une déclaration fournie à Reuters par courrier électronique, la société a déclaré : « ASML n’a jamais expédié de machine EUV en Chine et nous n’avons jamais expédié en Chine de composant, module ou équipement spécialement conçu pour être utilisé dans une machine EUV. » Ce rejet catégorique laisse peu de place à l’interprétation. L'entreprise a en outre souligné son engagement en faveur du respect de la réglementation, déclarant qu'elle avait « constamment ajusté ses activités à toute évolution des contrôles à l'exportation afin de se conformer à toute nouvelle règle », tout en rejetant toutes les accusations de non-conformité concernant les exportations chinoises. Pour un contexte à grande échelle : les systèmes EUV de pointe d'ASML mesurent une taille comparable à celle d'un autobus scolaire et font pencher la balance à 180 tonnes. Le transport non autorisé de ce type d’équipement présenterait d’importants problèmes logistiques. Les États-Unis ont progressivement renforcé leur cadre d’exportation de semi-conducteurs. En avril dernier, les législateurs ont présenté une législation destinée à obliger les pays alliés à harmoniser leurs politiques de contrôle des exportations avec les normes américaines, ciblant spécifiquement les capacités avancées de production de semi-conducteurs de la Chine. La technologie d’ASML a été explicitement mentionnée dans le projet de loi, soulignant le rôle essentiel du fabricant néerlandais dans la concurrence technologique actuelle entre les puissances mondiales. Ni le ministère du Commerce ni les représentants de la Maison Blanche n'ont fourni de commentaires immédiats lorsque Reuters les a contactés en dehors des heures d'ouverture. Le contexte plus large ajoute de l’importance à ces évolutions. En décembre dernier, Reuters a rapporté que des chercheurs chinois avaient réussi à créer un prototype de système EUV, assemblé par des ingénieurs ayant une expérience préalable en ASML. Les observateurs ont qualifié cette initiative d’équivalent chinois du projet Manhattan en matière de semi-conducteurs, un effort national global visant à atteindre l’autosuffisance dans la production de puces avancées sans dépendre des fournisseurs de technologie occidentaux. Cette évolution amplifie probablement les appréhensions de Washington. Alors que la Chine recherche déjà des capacités EUV indigènes en utilisant l’ancienne expertise ASML, des inquiétudes surgissent naturellement quant à l’accès potentiel aux équipements produits commercialement. Le rapport initial de Bloomberg ne précisait pas comment les équipements auraient pu entrer sur le territoire chinois ni ne présentait de preuves concrètes d’un tel transfert. L’histoire s’appuyait sur des sources anonymes connaissant la situation. Les actions d'ASML cotées à Amsterdam (ASML.AS) ont chuté de 1,68 % suite à la nouvelle, tandis que les actions négociées aux États-Unis ont chuté de 1,99 %. Le rapport a fait surface le 18 juin, et Reuters a ensuite corroboré les détails clés via la déclaration officielle d’ASML.