Applied Materials (AMAT) نے اپنے Centris Spectral SiN ALD اور پروڈیوسر سلیکٹرا Mo Etch پلیٹ فارمز کے آغاز کا اعلان کیا، جس میں AI کام کے بوجھ کے لیے سہ جہتی چپس کی پیداوار کو ہدف بنایا گیا۔
نئے آلات کی تفصیلات
سینٹریس اسپیکٹرل سسٹم ذیلی نانو میٹر کنٹرول کے ساتھ سلیکون نائٹرائڈ کی ایٹم پرت جمع کرتا ہے، جب کہ پروڈیوسر سلیکٹرا یونٹ تنگ، اعلیٰ تناسب والی خصوصیات کے لیے ہائی سلیکٹیوٹی مولیبڈینم اینچ فراہم کرتا ہے۔ دونوں پلیٹ فارمز گیٹ کے چاروں طرف ٹرانجسٹرز اور ملٹی لیئر 3D NAND ڈھانچے کو سپورٹ کرنے کے لیے انجنیئر کیے گئے ہیں جن کی AI سے چلنے والی ایپلی کیشنز تیزی سے مانگتی ہیں۔
مارکیٹ کا ردعمل
اس کی نقاب کشائی کے بعد، اپلائیڈ میٹریلز کے حصص $585.78 پر بند ہوئے، جو کہ 3.27 فیصد اضافہ کے ساتھ، اور مارکیٹ سے پہلے کی تجارت میں $587.57 پر چڑھ گئے۔ قیمتوں میں اضافے نے اسٹاک کو اس کی حالیہ بلندی کے قریب رکھا کیونکہ سرمایہ کاروں کو ایڈوانسڈ لاجک چپس کی بڑھتی ہوئی مانگ کی توقع ہے۔
سرمایہ کاروں اور کرپٹو ایکو سسٹم کے لیے مضمرات
تجزیہ کار نوٹ کرتے ہیں کہ نیا سامان مینوفیکچرنگ کی پیداوار کو بہتر بنا سکتا ہے، جس سے سرمایہ کاروں کی دلچسپی AI سے متعلقہ سیمی کنڈکٹر کی ترقی پر مرکوز ہے۔ اعلی کارکردگی والے چپس بلاکچین اور کرپٹو نیٹ ورکس کو بھی تقویت دیتے ہیں جو پروسیسنگ کی طاقتور صلاحیتوں پر انحصار کرتے ہیں۔