应用材料公司 (AMAT) 宣布推出 Centris Spectral SiN ALD 和 Producer Selectra Mo Etch 平台，目标是生产用于人工智能工作负载的三维芯片。
新设备详细信息
Centris Spectral 系统可通过亚纳米控制实现氮化硅的原子层沉积，而 Producer Selectra 装置则可提供高选择性钼蚀刻，以实现狭窄、高深宽比的特征。这两个平台均经过精心设计，旨在支持人工智能驱动的应用日益增长的需求的环栅晶体管和多层 3D NAND 结构。
市场反应
消息公布后，应用材料公司股价收于 585.78 美元，上涨 3.27%，并在盘前交易中攀升至 587.57 美元。由于投资者预计先进逻辑芯片的需求不断扩大，价格飙升使该股接近近期高点。
对投资者和加密生态系统的影响
分析师指出，新设备可以提高制造产量，吸引关注人工智能相关半导体增长的投资者的兴趣。更高性能的芯片还增强了依赖强大处理能力的区块链和加密网络。